老美聯合他的小弟們開始圍剿華夏，打壓華夏。但是有一件事情華夏跟之前的國家很不同，那就是華夏有著世界上最多的人口，最大的消費市場！更是占據著世界上百分之三十多的工業製造！
老美在華夏改革開放之後就已經開始製造業轉移開始製造業空心化。然後開始享受華夏龐大勞動力，生產的物美價廉的產品。
可能最開始的時候，老美的民眾還可能覺得無所謂。
可是時間長了，老美就會發現，很難去不進口華夏的產品，因為國內的需求難以滿足！因為在老美製造業空心化開始的時候，他的工人階級已經開始失業，國內的工人待遇也可以說中產開始變少！
財富開始越來越集中！現在還是平安無事那是因為有華夏的低廉產品，維持著老美的社會運行。而低收入群裡長時間的發現自己入不敷出之後那就會產生社會影響。
這時候他們就會選擇去製裁華夏的高端製造業，讓華夏一直處在低端的產業鏈。這樣就可以抑製華夏的崛起！而到了這一步基本上也會是下一任總統會進行！
而這個時間段估計會是五年後！所以王驍說為什麼會是五年後。
聽到王驍這麼說，領導點了點頭，然後示意王驍繼續說。
王驍有點蒙，而領導則是跟王驍說，你肚子裡明明還有很多的想法，跟預測大膽的說！不要在那玩低調！
王驍隻能繼續說了一點，比如這些不會有真正的效果，因為華夏不是那些小國家，華夏都人才很多，真的製裁華夏隻能讓華夏自己去突破，所以在高端製造業製裁隻能是一時的手段！
現在的高端製造領域已經開始發展了，等老美開始全麵壓製的時候就已經會晚了！
王驍不再說之後，領導也同意了王驍的說法，答應會全力配合，隱瞞大米在這次的光刻機領域的最為！
等老美製裁之後再對外公布！
另外，王驍也得到了領導對現在技術應用的時間，預計今年軍用就會開始率先使用，然後明年後年在更好的一代技術有了之後，這現在的技術才會向民用開放！
得到答案後王驍，王驍心滿意足的離開了部位！
然後王驍就回到濱城，準備實地去看看這次的突破！
這次王驍不是空手去的，是帶著獎金來的，王驍這次會獎勵這次所有參與光刻機研究的工作人員，給他們高額獎勵！
王驍是上午得到消息的，當天下午王驍就回到了濱城，低調的回到了濱城，然後低調的來到了實驗室所在！
這地方現在是保密單位，普通人根本靠近不了！為的就是讓這個項目保密不被發現。
尤其是在相關的扶持基金進場後，保密更嚴格了。要不是王驍是這個項目煩真正發起者，和絕大部分資金的供應著，王驍想要很容易的進入是很難得。
光刻機是半導體工業中的關鍵設備，主要用於製造芯片中的微小結構。它通過將掩模上的圖形投影到矽片上，並使用紫外線照射矽片表麵，使其形成微小的結構。
光刻機的核心部件包括鏡頭、光源、曝光台、測量台等。鏡頭是光刻機最核心的部分，采用的鏡頭可以達到高2米直徑1米，甚至更大。
光源是光刻機核心之一，光刻機的工藝能力首先取決於其光源的波長。曝光台和測量台是承載矽片的工作台。
光刻機的工作原理雖然類似於照相機照相，但光刻刻的不是照片，而是電路圖和其他電子元件。
光學係統包括曝光光源、透鏡、反射鏡等。用來將掩模上的圖形投影到矽片上。
機械係統包括平台、運動控製係統、自動對位係統等，用於控製矽片的位置和運動軌跡。控製係統包括計算機、控製軟件等，用於控製整個光刻機的運行和曝光過程。
二、光刻機的工作原理
光刻機的工作原理主要包括曝光和顯影兩個過程
曝光過程（1）準備工作將矽片放置在平台上，並通過自動
對位係統對矽片進行定位和對位。
（2）加熱處理將矽片加熱至一定溫度，以使其表
麵更容易吸收光線。
（3）塗覆光刻膠將光刻膠塗覆在矽片表麵，以
形成一個光刻膠層。
（4）對位通過自動對位係統將掩模和矽片對位，
以確保圖形的正確投影。
（5）曝光通過光學係統將掩模上的圖形投影到矽片上，並使用紫外線照射矽片表麵，使其形成微小的結構。顯影過程是指將矽片表麵的光刻膠進行化學反應
從而形成微小結構的過程。
顯影過程主要包括以下幾個步驟
1）塗覆顯影劑將顯影劑塗覆在矽片表麵，以溶
解光刻膠。
2）顯影通過化學反應將矽片表麵的光刻膠進行
溶解，從而形成微小的結構。
3）清洗將矽片表麵的顯影劑和光刻膠殘留物清洗乾淨，以準備下一次曝光。
光源技術+光源是曝光過程中最關鍵的部分，它的穩定性和光強度對於曝光的精度和速度都有著重要的影響。現代光刻機使用的光源主要有氙氣燈+、熒光燈、激光等。
透鏡技術+透鏡是將掩模上的圖形投影到矽片上的關鍵部件，它的製造精度和材料質量對於曝光的精度和分辨率都有著重要的影響。
控製係統技術控製係統是光刻機的核心部分，它負責整個曝光過程的控製和管理。現代控製係統采用計算機和控製軟件，能夠實現自動對位、自動矚光、自動對焦等功能。
曝光技術曝光技術是光刻機製造中最關鍵的技術之一，它的精度和速度直接影響到芯片的製造質量和效率。現代曝光技術主要包括多重圖形投射式曝光技術+、極紫外光曝光技術等。
王驍自己的了解了一下這次突破的方麵，這次的突破隻要就是之前一直難以攻克的極紫外線蝕刻問題這次被攻克了！
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