紀弘也很頭疼，產能怎麼擠？巧婦也難為無米之炊！
最關鍵的自然不是零部件這種東西，而是光刻機。
不說彆的，在限製一次又一次的加碼之後，國內現在能夠進口的最先進的光刻機是0di，曝光精度是n的那款。
主要用於n、n製程，多重曝光的情況下，也能製造n芯片。
更高級彆的已經完全不能出貨了。
哪怕是0di，現在要買也隻有理論上的可能。現有的都是存量，都是有數的——華為的先進工藝，就是用這款光刻機采用多重曝光工藝生產的。
等效n，算是把這台光刻機壓榨到了極限。
而國內生產已經投入商用的光刻機，是分辨率0n的滬上微電子的A000。
回到家裡，紀弘在書房，也是一樣一樣的在整理著國內的產業現狀，心裡也在思索一個可行的方案。
在他心裡，王華新院士那邊，超爆分辨率光刻機結合類思維AI大概率是可以瞬間解決問題的，目前這個型號的光刻機大約有十六台。
但，不管是否能行，都不能把雞蛋放在同一個籃子裡。
另一個方案……
他明天約了於總，這需要產業整合。
……
“用0di生產更高工藝級彆的芯片？做到台積電NP的密度？能效比也要追上？”
紀弘一發邀請，於東立即就來了，不為彆的，就為手機係統集成大小核與多線程智慧調度模塊的開發已經完成。
但見麵第一個問題，直接就把於東給搞懵了。
華為這兩年一直在回避工藝這個問題，無論是去年的000s和其一係列衍生物，還是今年即將發布的新的芯片，都不會對外公布工藝。
所謂等效n，等效n之類的，都是拆機愛好者用電子顯微鏡Dcod之後計算出來的。
但是自家人知自家事兒，性能、功耗、工藝三者之間的桎梏是沒那麼容易打破的。
就比如000s，調校激進一些不是問題，但功耗立即就會控製不住，發熱和耗電都會嚴重，這就是工藝過低帶來的弊端。
這兩年，一直在這個工藝上修修補補，說是等效n了，但是能效比跟真正的n相去甚遠。
而且，華為自認為在現有的硬件設備條件下，這台光刻機進步的空間已經被壓榨乾淨了——除非UV研發成功，否則，麒麟芯片的硬件性能想要再提升，已經非常困難了。
所以，他們才會對卷耳智能科技的多線程大小核調度模塊如此的上心——性能不夠，調度來湊。
而事實上，這個模塊沒有讓他們失望——紙麵數據直接提升了%，實際體驗的話，感知甚至更高。
是真的讓這一代麒麟，有了至少不輸+的紙麵數據，實際體驗直追G都不是問題。
但現在，紀弘告訴他，做真正的n！
海思的設計能力現在已經無人懷疑，甚至在很多人眼裡，它已經是世界最強，沒有之一——能在落後製程工藝下設計出現在的麒麟，哪怕是蘋果也不容易做到。
如果工藝再能提上去，那……
光想想，於東都覺得是美的。
……
“先參觀一下吧。”紀弘看出於東的驚訝，話已經點到，解釋什麼都是多餘的，擺事實在任何時候都會好過講道理。
倆人換好衣服鞋子手套頭套，來到產線。
“楊工，介紹一下現在的情況吧。”紀弘引這於東站在產線正在工作的光刻機屏幕之前，喊來總工程師，如此說道。
“無限套刻測試一直在循環進行，目前，極端線寬已經做到了n……”
於東聽到n的時候，內心還一笑，這也不高嘛。
但是隨即反應過來，當即驚呼道：“多少？”
這他麼是0n的光刻機啊，搞我玩兒呢吧，而且這玩意兒用的是i線n的光源啊！
華為利用AQP技術實現倍精度的光刻，這其中有多困難，隻有做過才知道。
而且良率從幾乎沒法看到現在的漸漸提高，也經曆了非常漫長的時間——說白了，這玩意是實在沒辦法了才去搞的。
如果國內有UV，何至於費這麼大的勁！