“0倍精度！n！”楊工程師確認道。
“你們用的什麼方法？”於東沒有懷疑楊工騙他，這東西就在這兒，騙他沒有任何意義，紀弘想跟他談什麼，也不差這一點籌碼。
“最簡單的方法。”楊工程師也是認真的回複道：“就是把需要光刻的圖分到多個掩膜版上，然後一遍一遍的重複光刻-刻蝕-光刻-刻蝕……就這樣。”
“這……”這種方法於東當然知道，就是最原始的方法。
但是精度怎麼控製啊？這東西在所有的工藝節點上，量產工藝，就沒有做過雙重以上的，最多就是雙重。
理論倒是非常簡單，但做起來那是非常的困難。
不僅是工件台的移動精度問題，有非常多的問題需要解決。
稍微對不準一點，一重一重的累積下來就會是天文數字，最終導致全盤都失敗。
換句話說，你動一下都需要保持n級彆的精度，既然有這個技術，直接去改造光刻機都比這個更容易。
“來，看看我們的曆程吧。”沒等楊工回答，紀弘引著於東來看這幾天產線在做什麼。
“與傳統提升工藝的過程不同，”紀弘介紹道：“類思維AI在這裡發揮了巨大的作用。
“刻-刻蝕-光刻-刻蝕，也就是LL這種雙重曝光技術之所以引起套刻誤差，不能四重甚至更多重的LLLLL，是因為精度不好把握。
“但，對於我們來說，這反倒是最簡單的。對準嘛，機械重複就好了，一次不行那就多來幾次。”
這個過程困難嗎？
對於一般的產線來說，非常困難。
因為誤差有多少，不下產線去檢測就不可能知道。
一次光刻之後，按程序移動，然後二次光刻，所有流程結束了，上檢測線了，上封測線了，才能知道哪兒出了問題，良率多少，是不是能夠滿足量產需求。
不能的話，去調整，重複上述過程，直到滿足需求。
但宏圖微電子這兒呢？就好像裡邊住了個人。
機台動了一下，光刻尚未進行：“我對準了沒？”
“好像還差一點。”
“現在呢？”
“往右一點。”
“這會兒呢？”
“往左一點。”
“現在呢？這回總可以了吧？”
“嗯！刻吧！”
這一刻，精準無比，彆說刻三次五次，哪怕十次更多次，隻要計算好了，那也完全都沒有問題。
當然，真正的過程不可能是描述的這個樣子，但如果擬人化的話，大概是這麼個意思。
這就叫做精度不夠，“微調”來湊。一步不到位，咱慢慢調。
當然，這個慢也是相對的——如果傳感數據計算好了，由人來判斷和調整，那是真叫慢——光電所的超爆光刻機所麵臨的就是這個問題。
但這個時候判斷是否對準以及做出決策的，是類思維AI工業模型結合機器視覺以及維納傳感，這速度立即就上去了。
……
而於東看著這幾天的數據，人有些麻。
這東西還不是一天成型的，從數據中可以明顯看出，第一天的時候，雙重曝光都還有些費勁，效果很不理想。
但成長賊快——隨著一次又一次的嘗試，一次又一次的訓練，這套係統是越來越強，直到今天自己看到的這樣一種十倍精度光刻的效果。
而這說起來還要多虧了王華新院士這個【微納製造與智能傳感技術】國內頂尖專家，如若不然，還真不一定能夠達到現在的這種訓練效果。
本章完
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